/사진제공=SK하이닉스
SK하이닉스는 1c 미세 공정을 적용한 16Gb(기가비트) DDR(더블데이터레이트)5 D램을 전세계에서 가장 먼저 개발했다고 29일 밝혔다. (본지 4월 9일자 '[단독]SK하이닉스, '6세대 D램' 3분기 양산' 참조) 이틀 전인 27일 내부적으로 퀄(품질) 인증을 하고 공식적으로 개발 완료를 선언했다. 기존 업계 최선단 공정이었던 10나노급 5세대 1b의 회로 선폭은 12나노급, SK하이닉스의 1c공정은 11나노급으로 전해진다.
SK하이닉스는 연내 신제품 양산 준비를 마치고 내년부터 본격 공급할 예정이다. 동작속도는 8Gbps(초당 8기가비트)로, 이전 세대 대비 11% 빨라졌다. 전력효율은 9% 이상 개선됐다. 또 설계 기술 혁신으로 1b 대비 생산성을 30% 이상 향상시켰다.
D램 초미세공정 경쟁이 날이 갈수록 치열해지면서 메모리반도체 기업들 간 기술 격차도 크게 좁혀졌다. 1위 삼성전자와 후발주자(SK하이닉스, 마이크론)의 공식도 깨졌다. 반도체 업계는 10나노급 4세대(1a) 때부터 SK하이닉스가 삼성전자와 동등 개발, 1b부턴 수율 램프업(증대)시기를 고려할 때 삼성전자를 제친 것으로 본다.
SK하이닉스는 1c DDR5에 앞서 1b DDR5에서도 지난해 5월 세계 최초로 인텔 데이터센터 호환성 검증에 들어갔다.
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SK하이닉스는 "10나노급 D램 기술이 세대를 거듭하면서 미세공정의 난이도가 극도로 높아졌으나, 당사는 업계 최고 성능이 입증된 5세대(1b) 기술력을 바탕으로 설계 완성도를 높여 가장 먼저 기술한계를 돌파해냈다"며 "메모리 반도체 시장의 성장을 이끌어 갈 것"이라고 말했다.
미세공정 기술 개발이 빨라질수록 이를 적용하는 각종 D램 솔루션의 생산성도 높아진다. 기술력 리더십이 구체적인 제품들의 생산과 판매에서도 실질적인 시장 확보로 연결된다는 얘기다. SK하이닉스는 DDR5와 HBM 모두 글로벌 시장 점유율 1위다.
김종환 부사장(DRAM 개발담당)은 "최고의 성능과 원가 경쟁력을 동시에 충족시킨 1c 기술을 차세대 HBM, LPDDR6, GDDR7 등 최첨단 D램 주력 제품군에 적용하면서 고객에게 차별화된 가치를 제공할 것"이라며 "앞으로도 당사는 D램 시장 리더십을 지키면서 고객으로부터 가장 신뢰받는 AI 메모리 솔루션 기업의 위상을 공고히 하겠다"고 말했다.