삼성, 中반도체 2차 투자 착수…장비社 '호재'

머니투데이 강경래 기자 2015.06.17 11:19
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테스·유진테크·AP시스템 등 장비 수주…케이씨텍·로체시스템즈 등 추가 수혜 전망

삼성전자 (78,900원 ▲1,500 +1.94%)가 중국 시안(서안)에 운영 중인 반도체 제조사업장에 대한 2차 투자에 나서면서 유진테크 등 장비 협력사들의 수혜가 잇따르고 있다.

17일 관련업계에 따르면 삼성전자는 현재까지 테스 (23,500원 ▲350 +1.51%), 테라세미콘 (16,000원 ▲450 +2.9%), 유진테크 (48,950원 ▲1,600 +3.38%), AP시스템 (6,910원 ▲130 +1.92%) 등 협력사들을 대상으로 시안사업장 증설에 쓰일 장비를 발주했다.



삼성전자 시안사업장은 낸드플래시 메모리반도체 여러 개를 3차원(3D) 방식으로 적층한 'V낸드' 제품을 주력으로 생산한다. 시안사업장은 2013년 하반기부터 1차 장비 발주에 착수해 지난해 상반기부터 낸드플래시 제품을 월 4만장 규모(웨이퍼 기준)로 생산하고 있다.

시안사업장에 대한 설비투자를 모두 마무리할 경우 V낸드 생산량은 월 10만장까지 늘어난다. 삼성전자가 이번에 투자하는 물량은 월 2만장 수준의 2차 투자에 해당한다.



삼성전자가 2년여 만에 중국에 반도체 설비투자에 나서면서 협력사들 사이에서 장비수주에 따른 실적개선 기대감이 고조되고 있다. 우선 테스는 삼성전자로부터 '비정질탄소막 증착장비'(아몰포스카본레이어) 등 반도체 공정장비를 242억원 규모로 수주했다.

테라세미콘과 AP시스템은 '열처리장비'(RTP)를 각각 111억원, 52억원 상당에 삼성전자에 공급키로 계약했다. 유진테크는 '저압 화학증착장비'(LP CVD) 등을 94억원 규모로 납품할 예정이다. 이들 기업은 공통적으로 오는 9월까지 장비를 납입할 예정이다.

이들 업체 외에 원익IPS (3,515원 ▼5 -0.14%)는 '플라스마 화학증착장비'(PE CVD), 국제엘렉트릭은 '열확산장비'(디퓨전퍼니스) 공급이 유력하다. 케이씨텍 (22,450원 ▲150 +0.67%)(가스공급장치)과 글로벌스탠다드테크놀로지(GST (41,400원 ▼1,600 -3.72%), 가스정화장치), 엘오티베큠 (17,220원 ▼340 -1.94%)(진공펌프) 등은 공정장비에 보조적으로 쓰이는 장치를 납품할 가능성이 높다.


로체시스템즈 (11,020원 0.00%)에스티아이 (35,850원 ▲400 +1.13%)는 각각 '공정자동화장비'(FA장비)와 '화학약품 중앙공급장치'(CCSS) 등에서 수혜가 예상된다. 유진테크와 테스 등 앞서 장비를 공급키로 한 업체들 역시 추가적인 장비 수주가 가능하다는 분석이다.

증권가 관계자는 "삼성전자가 시안사업장에 쓰일 장비를 2차로 월 2만장 규모로 발주했지만, 1차와 같은 규모(월 4만장)로 맞추기 위해 곧바로 월 2만장 규모 설비를 더 투자할 가능성도 있다"며 "삼성전자가 시안뿐 아니라 경기 화성사업장에도 일부 증설을 예정하고 있고, 내년 이후에는 평택사업장 투자에도 나서면서 장비 협력사들이 지속적으로 수혜를 받게 될 것"이라고 말했다.
삼성전자 중국 시안 반도체사업장 전경 / 사진제공=삼성전자삼성전자 중국 시안 반도체사업장 전경 / 사진제공=삼성전자



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