파크시스템스 (158,800원 ▲3,300 +2.12%)가 반도체 극자외선(EUV) 공정 시 포토마스크에 발생하는 나노미터 크기의 결함 및 파티클을 안전하고 효과적으로 제거할 수 있는 신제품 '파크 NX-마스크(Park NX-Mask)'를 정식 출시했다고 4일 밝혔다.
Park NX-Mask는 EUV 마스크를 위한 듀얼포드를 지원하며 마스크 패턴에 발생한 결함 및 파티클의 형상 측정 및 제거, 제거 후 검증까지 모든 과정을 하나의 솔루션으로 제공한다. Park NX-Mask를 사용하면 반도체 제조사들은 고비용의 EUV 공정에서 생산원가를 낮추고 디바이스 수율을 높일 수 있다.
Park NX-Mask는 공식 출시 이전부터 글로벌 고객사들로부터 8대의 수주를 받으며 시장의 호응을 얻고 있다.
이동춘 파크시스템스 제품마케팅 총괄임원(전무)은 "Park NX-Mask는 EUV 기술을 포함한 차세대 반도체 포토공정의 개발 및 제조 생산성 증대에 크게 기여할 것"이라며 "앞으로도 글로벌 고객사들의 나노계측 및 나노머시닝 분야의 요구에 대해 최적의 솔루션을 제공할 것"이라고 말했다.