[더벨]한성크린텍, '반도체 물부족' 폐수 재이용으로 해결한다

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초순수 생산기술 국산화를 추진 중인 한성크린텍 이 초고속 원심분리기 기술보유 업체인 일본 지포스재팬(G FORCE JAPAN)과 공동 기술개발에 나선다.

26일 한성크린텍은 전일 일본 나고야 지포스재팬 본사에서 기술협력과 장치공급을 위한 양해각서(MOU)를 체결했다고 밝혔다. 이번 MOU를 통해 한성크린텍은 각종 산업에서 발생되는 고농도 실리콘 폐수와 농축수를 재이용하기 위한 기술을 공동 개발하고, 초고속원심분리기 장치를 우선적으로 국내 시장에 공급할 예정이다. 구체적으로는 회수가 어려운 미립자 성분들을 분리하고, 각종 폐액을 고형화해 폐수를 재이용 함으로써 물 부족 문제를 개선할 수 있게 한다는 구상이다.

국내 삼성전자와 SK하이닉스는 물론 대만 파운드리(반도체 위탁생산) TSMC 등 전 세계 반도체 회사가 물 부족 이슈를 겪고 있는데, 이를 일부 해소할 대안 중 하나가 돼줄 것으로 기대된다. 뿐만 아니라 자원의 선순환 과정을 통해 지속가능한 순환경제 사이클을 만들어 ESG(환경·사회·지배구조) 경영에도 기여할 수 있을 전망이다.

한성크린텍은 초순수 생산에 필요한 요소기술, 폐수재이용, 실리콘과 이차전지 폐액 등 재이용을 위한 기술개발도 추진 중이다. 초순수 전처리 공정에 필요한 활성탄 필터를 대나무 소재로 변경하는 활성탄 생산기술을 확보하고 성능을 추가로 검증 중에 있다.

박종운 한성크린텍 대표이사는 "초순수 생산기술이 필요한 첨단 산업분야에 국산화 기술을 속도감 있게 공급하겠다"며 "소재, 부품, 장비개발에 회사 역량을 총동원하고 있다"고 말했다. 이어 "이번 MOU를 계기로 물 부족에 대비한 폐수재이용 및 자원재활용 기술확보 시기가 빨라질 것"이라고 덧붙였다.

한성크린텍은 지난 25일 일본 나고야 지포스재팬 본사에서 기술협력 및 장치공급을 위한 양해각서(MOU)를 체결했다. (왼쪽부터 한성크린텍 박성민 기술영업 팀장, 지포스재팬 보노시게키 대표, JELK 권혁익 대표, 한성크린텍 박종운 대표, 손윤진 사업1본부장 /사진제공 =한성크린텍)