신에츠화학, 54년 만에 일본 '반도체 소재' 신공장 짓는다

일본 정부가 '반도체 굴기'에 속도는 내는 가운데 반도체 소재 업체 신에츠화학이 56년 만에 국내 제조 거점 신설에 나선다. /사진=일본 신에츠화학 홈페이지

일본 정부가 '반도체 굴기'에 속도를 내는 가운데 반도체 소재 업체 신에츠화학이 56년 만에 국내 제조 거점 신설에 나선다.

8일 니혼게이자이신문(닛케이)에 따르면 신에츠화학은 군마현에 반도체 소재 신공장을 설립할 계획이다. 신에츠화학의 신공장은 2026년 완공을 목표로 건설되고, 포토레지스트(감광액)나 원판 재료 등 반도체 웨이퍼에 회로를 그리는 노광 공정에서 사용되는 재료가 생산될 예정이다.

신에츠화학은 신공장 건설을 위해 군마현 이세사키시에 약 15만㎡의 사업용지를 취득했고, 830억엔(약 7408억1650만원)의 자금을 투입할 계획이다. 신공장은 반도체 소재 생산의 전략적 거점으로 한국, 미국 등으로의 수출 담당 이외 연구개발(R&D) 센터로도 사용된다. 닛케이는 "신에츠화학의 국내 공장 신설은 1970년 카시마 공장 이후 처음"이라고 설명했다. 신에츠화학의 이바라키현 카시마 공장에선 염화 비닐 수지 등을 생산한다.

반도체 노광 공정의 핵심 소재인 포토레지스트는 일본 기업이 강정을 가지는 소재 중 하나다. 포토레지스트 시장의 90% 이상은 일본 기업이 장악하고 있다. 특히 신에츠화학의 세계 시장 점유율은 약 20%로, 첨단 반도체 관련 점유율을 40% 이상에 달한다고 닛케이는 전했다. 신에츠화학의 포토레지스트는 현재 일본 니가타현과 대만 공장에서 생산하고 있으며 대만 공장은 2021년, 니가타현 공장은 2022년에 증설했다.

신에츠화학의 신공장은 2026년 완공을 목표로 건설되고, 포토레지스트(감광액)나 원판 재료 등 반도체 웨이퍼에 회로를 그리는 노광 공정에서 사용되는 재료가 생산될 예정이다. 투자액은 830억엔(약 7408억1650만원)이다. /사진=일본 신에츠화학 홈페이지

닛케이는 "반도체 소재는 현장의 장인적인 기술 축적이 중요한 분야로, 일본이 기술 우위성을 유지하고 있다"며 영국 시장조사기관 옴디아를 인용해 "일본 반도체 소재 주요 6개 품목의 시장 점유율은 약 50%로, 대만(17%)과 한국(13%)을 크게 뛰어넘는다"라고 설명했다. 그러면서 신에츠화학의 이번 신공장 건설은 과거 반도체 강국 명성을 되찾으려는 일본 정부의 반도체 굴기 행보에 한층 힘을 실어줄 것으로 봤다.

신문은 일본 정부가 경제 안보 차원에서 반도체 국내 생산에 적극 나서고 있다며 "반도체 생산에 필요한 재료도 국내(일본)에서 조달할 수 있도록 하는 것은 공급망 강화로 이어진다"고 분석했다. 세계 최대 파운드리(반도체 수탁생산) 업체인 대만 TSMC의 첫 일본 생산시설인 구마모토현 공장은 가동을 시작했다. 기시다 후미오 일본 총리는 지난 6일 구마모토현 TSMC 제1공장을 시찰하고 "정책을 총동원해 지원하겠다"는 의지를 내비쳤다. TSMC는 구마모토현에 2027년 가동을 목표로 하는 제2공장도 건설한다.

한편 미쓰이화학도 노광 공정 소재 '펠리클'을 생산하는 야마구치현 공장 증설을 위해 50억~90억엔을 투자한다. 사측은 야마구치현 공장 증설을 통해 오는 2025~2026년에 기존보다 성능이 향상된 제품을 양산한다는 계획이다. 펠리클은 반도체 웨이퍼에 레이저를 대고 회로를 그릴 때 원판에 흠집이나 먼지가 달라붙는 것을 막는 역할을 한다.