ASML은 지난 14일(현지시간) 공개한 2023년 연차 보고서에서 반도체 시장이 바닥을 치고 반등하고 있다고 진단했다.
로저 다센 ASML 최고재무책임자(CFO)는 "시장이 이제 침체의 최저점에 도달했다고 믿는다"며 "속도를 정확하게 예측할 수는 없지만 회복이 이뤄지고 있으며, 장기적 추세는 명확하다"고 밝혔다. 그는 "올해 실적은 2023년과 비슷한 수준으로, '전환'을 이루는 해로 보고 있다"며 "그러나 2025년은 강력한 성장의 해가 될 것"이라고 진단했다.
ASML은 모니터링 지표들에서 긍정적 신호를 포착했다고 설명했다. 시장 전반의 재고 수준이 계속 개선되고 있고, 반도체 기업들의 노광장비 가동률도 높아지고 있다는 것이다. 또 최근 대규모 주문이 지속적으로 들어오고 있는데다, 세계 곳곳에서 대규모 반도체 공장들이 건설 중이라는 점도 수요 증가를 시사하는 요인이라고 했다. ASML은 반도체 산업이 향후 10년 동안 현재보다 2배 가량 성장할 것으로 봤다.
ASML은 시장수요 급증에 대비가 필요하다고 강조했다. 다센 CFO는 "역사상 처음으로 수요 급증에 대비해 사전에 미리 제품 재고를 만들어 놓을 계획"이라며 "우린 상승을 위해 준비 중"이라고 밝혔다.
ASML은 최첨단 반도체를 만들기 위해 반드시 필요한 EUV(극자외선) 노광장비를 전세계에 사실상 독점 공급하는 기업이다. 글로벌 반도체 기업들은 1대당 수천 억원에 달하는 ASML의 첨단 EUV 장비를 최대한 빨리 손에 넣기 위해 경쟁을 벌인다. 이 때문에 ASML은 반도체 업계의 '슈퍼 을'로 불린다.
EUV는 파장이 13.5 나노미터(nm)인 빛을 사용해 실리콘 웨이퍼에 가늘고 세밀한 회로를 새기는데, 기존 공정에 사용되던 빛 파장의 10분의 1 미만에 불과해 7나노 이하 초미세 회로를 그리는데 필수적이다. AI반도체 등 급격한 시장 변화에 발맞춰 EUV 기술도 진화 중이다.
NA(뉴메리컬어퍼처)가 0.33인 'NXE EUV' 플랫폼은 2013년 첫 상용화된 이후 현재까지 주요 반도체 생산기업들의 주력 기기로 사용 중이다. 현재 최고 해상도와 생산성 등을 개선한 7세대 제품까지 업그레이드됐고, 지난해 6월 100번째 'TWINSCAN NXE:3600D' 제품이 출하됐다.
ASML은 차세대 EUV 시스템으로 NA를 0.55로 높인 'EXE EUV' 플랫폼을 개발 중이다. 더욱 진화된 기술을 적용, 기존 시스템 대비 작업 복잡성을 줄여 시간을 단축하는 동시에 결함 위험도 낮췄다. 지난해 연구개발(R&D) 용으로 첫 모듈을 인도했는데, 실제 생산용 제품의 현업 배치는 2025년부터 이뤄질 전망이다. ASML은 "현재 모든 EUV 고객사로부터 업계 최초의 하이 NA EUV 생산시스템인 'TWINSCAN EXE:5200'의 구매 주문을 받았다"고 공개했다.
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