최우수상은 '이온 소스 헤드 및 이를 포함하는 이온 주입 장치' 특허로 이호준 부산대 전기공학과 교수가 받았다. 이 특허는 고진공, 저유량에서도 고주파 플라즈마를 생성할 수 있어 기존 대비 플라즈마 효율을 향상시키는 장점이 있다. 이온 소스 사용주기를 2배 이상 개선해 비용도 절감할 수 있다.
우수상은 노삼혁 울산과학기술원 교수, 장려상은 박찬혁 이화여대 교수, 노원우 연세대 전기전자공학부 교수, 전정훈 성균관대 반도체시스템공학과 교수가 받았다.
SK하이닉스는 산학협력 대학교가 연구과제 수행과정에서 출원한 특허 중 우수특허를 선별해 연구자의 사기를 북돋우고 개발을 장려하기 위해 2013년부터 매년 포상식을 열고 있다.
올해는 코로나19(COVID-19) 영향으로 SK하이닉스 구성원들이 수상자 학교를 직접 찾아가 상패를 전하는 방식으로 포상식을 진행했다.
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