어플라이드머티어리얼즈가 10나노 이하 멀티플 패터닝 스케일링에 필요한 차세대 광학 리소그래피(lithographic) 포토마스크의 식각을 위한 ‘센츄라 테트라 Z 포토마스크 식각 장비'를 21일 발표했다.
이 장비는 로직과 메모리 디바이스를 위해 패터닝 사양을 충족시키는데 필요한 포토마스크 임계치수(CD: critical dimension) 변수에 옹스트롬 레벨(angstrom-level)의 정확성을 제공한다. 테트라 장비는 지난 10여년간 전세계 대부분의 마스크 제조업체들의 포토마스크 식각에 사용돼 왔다.
라오 야라만치리 어플라이드머티어리얼즈 마스크 식각 장비 총괄책임자는 “193나노 파장을 사용해 10나노 또는 7나노 패턴을 생산하기 위해서는 포토마스크에 의존도가 높은 이머전과 멀티플 패터닝을 포함하는 최적의 기술이 필요하다"며 "테트라 Z는 진보된 노드 설계의 패터닝을 위한 차세대 광학 포토마스크를 식각하기 위해 요구되는 정확성을 제공하는 유일한 장비"라고 말했다.
어플라이드머티어리얼즈는 반도체 분야의 정밀재료공학 솔루션 및 평판 디스플레이, 태양광 산업 분야 세계적 기업이다.
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