에스앤에스텍 측은 "특허법원의 '위상변이 블랭크마스크'(Phase Shift Blank Mask) 특허무효 판정에 대한 호야 측 상고를 지난달 26일 대법원이 기각, 호야와의 특허무효소송에서 최종 승소했다"고 설명했다.
위상변이 블랭크마스크는 반도체 집적도가 향상됨에 따라 반도체 고해상도를 구현할 수 있는 필수재료로 그 수요가 지속 증가하고 있다. 에스앤에스텍은 이번 무효소송 최종 승소로 현재까지 호야가 독점했던 위상변이 블랭크마스크 시장에 본격적으로 진출할 수 있는 전기를 마련했다는 평가다.
에스앤에스텍과 호야간 특허분쟁은 2005년 9월 호야가 서울중앙지방법원에 특허침해소송을 제기하면서 시작됐다. 이어 에스앤에스텍이 같은 해 11월 특허심판원에 특허무효심판을 청구해 2007년 7월 호야의 특허무효 판정을 받아냈다.
이에 호야는 같은 해 8월 이 사건을 특허법원에 항소했으나, 지난해 11월 특허법원은 호야의 청구를 기각한데 이어 이번 대법원 판결로 에스앤에스텍이 최종 승소했다.
에스앤에스텍은 반도체 LCD 공정소재인 블랭크마스크 전문기업으로 이달 14일 코스닥에 상장될 예정이다.
<에스앤에스텍과 호야 특허소송 일지>
2005년 11월 18일 에스앤에스텍, 호야 특허에 대한 무효심판 청구 (특허심판원)
2007년 7월 11일 에스앤에스텍 승소, 호야 특허무효 판정 (특허심판원)
2007년 8월 16일 호야, 특허무효 판정에 대한 항소 (특허법원)
2008년 11월 13일 에스앤에스텍 승소, 호야 특허무효 판정 (특허법원)
2008년 12월 3일 호야, 특허무효 판정에 대한 상고 (대법원)
2009년 3월 26일 에스앤에스텍 승소 최종 확정 (대법원)
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