26일(현지 시간) 독일 오버코헨 ZEISS 본사를 방문한 이재용 삼성전자 회장이 칼 람프레히트 (Karl Lamprecht) ZEISS그룹 CEO와 악수하는 모습/사진제공=삼성전자
이 회장은 자이스 경영진과 반도체 핵심 기술 트렌드 및 양사의 중장기 기술 로드맵에 대해 논의하고, 자이스 공장을 방문해 최신 반도체 부품·장비가 생산되는 모습을 살펴봤다. 이날 이 회장의 자이스 본사 장문엔 송재혁 삼성전자 DS(디바이스솔루션)부문 CTO(최고기술책임자), 남석우 삼성전자 DS부문 제조&기술담당 사장 등 반도체 생산기술을 총괄하는 경영진이 동행했다.
26일(현지 시간) 독일 오버코헨 ZEISS 본사를 방문한 이재용 삼성전자 회장(왼쪽에서 두번째)이 최신 반도체 장비를 살펴본 뒤 칼 람프레히트(Karl Lamprecht) ZEISS그룹 CEO(왼쪽에서 세번째), 안드레아스 페허(Andreas Pecher) ZEISS SMT(Semiconductor Manufacturing Technology) CEO(왼쪽에서 첫번째)와 함께 기념사진을 촬영하는 모습 /사진제공=삼성전
이 회장의 이번 방문을 계기로 삼성전자와 자이스는 향후 EUV 기술 및 첨단 반도체 장비 관련 분야에서의 협력을 더욱 확대하기로 했다. 삼성전자는 자이스와의 기술 협력을 통해 차세대 반도체의 △성능 개선 △생산 공정 최적화 △수율 향상을 달성하며 메모리와 파운드리(시스템반도체 위탁생산) 사업 경쟁력을 더욱 끌어올린다는 계획이다. 삼성전자는 올해 안에 EUV 공정을 적용한 6세대 10나노급 D램을 양산할 예정이다. 또 파운드리 시장에선 EUV 기술력을 바탕으로 3나노 이하 초미세공정 시장을 주도한단 목표를 세웠다.
26일(현지 시간) 독일 오버코헨 ZEISS 본사를 방문한 이재용 삼성전자 회장이 ZEISS 제품을 살펴보는 모습/사진제공=삼성전자
이 회장은 이번 출장에서 자이스가 위치한 독일 외에도 프랑스, 이탈리아 등을 방문해 비즈니스 미팅 및 유럽시장 점검, 주재원 간담회 등의 일정을 소화할 예정인 것으로 알려졌다.