'2나노' 경쟁서 승기 잡을까…ASML 만난 이재용 "반도체 성과가 90%"

(서울=뉴스1) 이승배 기자 = 이재용 삼성전자 회장이 윤석열 대통령의 네덜란드 국빈 방문 동행을 마치고 15일 오전 서울 김포공항 비즈니스센터를 통해 귀국하고 있다.2023.12.15/뉴스1 Copyright (C) 뉴스1. All rights reserved. 무단 전재 및 재배포, AI학습 이용 금지.

이재용 삼성전자 회장이 네덜란드 출장 성과를 두고 "반도체가 거의 90%"라고 말했다. 이 회장은 지난 12일부터 윤석열 대통령의 네덜란드 국빈 방문에 동행해 15일 귀국했다.

삼성전자와 ASML은 12일 반도체 MOU(업무협약)을 맺었다. 두 회사가 7억 유로(약 1조원)을 함께 투자해 반도체 공동 연구소를 설립한다는 내용이다.

이날 이 회장과 함께 귀국한 DS(반도체)부문장 경계현 사장은 이번 협약식을 두고 "여러가지 (반도체)툴이 있지만 EUV가 가장 중요한 툴 중 하나기 때문에 이것을 통해서 전체 반도체 공급망 입장에서 굉장히 튼튼한 우군을 확보했다고 본다"고 말했다. ASML은 반도체 미세 공정에 필수적인 EUV 노광 장비를 독점 생산한다.

경 사장은 "경기도 동탄에 반도체 공동연구소를 짓고, 그곳에서 하이 NA(뉴메리컬어퍼처) EUV(극자외선) 장비를 들여온 뒤, ASML 엔지니어와 삼성전자의 엔지니어들이 같이 기술개발을 하는 것이 주목적이다"고 설명했다.

(서울=뉴스1) 이승배 기자 = 네덜란드 방문을 마친 경계현 삼성전자 사장이 15일 오전 서울 김포공항 비즈니스센터를 통해 귀국해 취재진의 질문에 답하고 있다.2023.12.15/뉴스1 Copyright (C) 뉴스1. All rights reserved. 무단 전재 및 재배포, AI학습 이용 금지.

하이 NA EUV 장비는 ASML이 개발한 차세대 장비로, 2나노미터(㎚·1㎚=10억분의 1ｍ)공정을 위한 핵심 장비로 여겨진다. 삼성전자는 지난해 3나노 공정을 세계 최초로 양산한 뒤 2나노 공정을 두고 TSMC와 승부를 벌이고 있다. 삼성전자는 2025년엔 2나노 공정 생산, 2027년엔 1.4나노 공정 생산을 목표로 한다.

이어 경 사장은 "하이 NA EUV 장비에 대한 기술적 우선권을 삼성이 갖게 될 것"이라며 "장기적으로 D램이나 로직에서 하이 NA EUV를 잘 쓸 수 있는 계기를 만들지 않았나 생각한다"고 긍정 평가했다.