삼성·하이닉스 반도체기술 중국 유출한 장비업체 관계자 17명 기소

'HKMG' 반도체 제조기술 등 D램 반도체 핵심 기술 유출돼

서울 서초구 서울중앙지검의 모습. 2020.12.2/뉴스1 © News1 황기선 기자

(서울=뉴스1) 류석우 기자 = 검찰이 D램 반도체 관련 국가핵심기술과 첨단기술을 국외로 유출한 반도체 장비업체 연구소장 등 17명을 재판에 넘겼다.

서울중앙지검 영업비밀유출·정보통신범죄전담부(부장검사 조상원)는 SK하이닉스의 반도체 제조 및 세정 관련 국가핵심기술을 중국 반도체 경쟁업체에 유출한 A회사 연구소장과 영업그룹장 2명을 산업기술보호법 위반죄와 부정경쟁방지법 위반 혐의 등으로 구속기소했다고 26일 밝혔다.

검찰은 아울러 삼성전자의 자회사인 반도체 장비업체 B회사의 반도체 세정장비 관련 첨단기술을 취득해 중국 수출용 반도체 장비 개발에 사용한 A회사의 공정그룹장, 공장장 및 하청업체 대표 3명을 산업기술보호법위반 혐의 등으로 지난해 구속기소했다.

또 범행에 가담한 A회사 부사장과 품질그룹장 및 B회사의 전직 직원 등 11명과 A회사도 지난해와 올해에 걸쳐 산업기술보호법위반 혐의로 불구속 기소됐다.

검찰은 국정원 산하 산업기밀보호센터로부터 국내 반도체 관련 핵심 기술이 중국 반도체 업체에 유출된 정황이 있다는 정보를 제공받고 수사에 착수했다.

검찰에 따르면 수사팀은 수사 과정에서 국내 D램 반도체 제조업체의 협력업체가 제조업체와의 협업을 통해 알게 된 제조업체의 국가핵심기술 및 첨단기술을 중국 반도체 경쟁업체로 유출한 사실을 파악했다.

또 국내 경쟁업체인 D램 반도체 장비업체의 첨단기술을 경쟁업체 전직 직원을 통해 몰래 취득한 뒤, 중국 수출용 장비 개발에 첨단기술을 사용한 사실도 드러났다.


특히 중국 반도체 경쟁업체에 유출된 'HKMG' 반도체 제조기술과 초임계 반도체 세정레시피 정보 및 수출용 장비 개발에 사용된 세정장비 제작기술은 10나노급 D램 반도체 제조공정의 핵심기술로 알려져있다.

'HKMG(High-K Metal Gate)'는 D램 반도체의 성능을 향상시키기 위해 전도율이 높은 신소재를 사용한 최신 반도체 제조공정 기술이다.

'반도체 세정 레시피'는 반도체 제조공정 중 세정공정에 사용되는 화학물질의 배합비·분사순서·속도에 대한 수치로, SK하이닉스가 반도체 양산 라인에서 수만 장 이상의 패턴 웨이퍼(Pattern Wafer)로 공정을 수행하고 이를 평가·보완해 확정한 정보다.

검찰 관계자는 "치밀한 수사를 통해 HKMG 반도체 제조기술의 추가적인 국외 유출을 방지하고, 유출 기술을 사용하여 제조한 반도체 초임계 세정장비의 중국 수출을 사전에 차단했다"며 "앞으로도 기술유출 사건 등 전문분야 수사 역량을 지속적으로 강화해 국가핵심기술과 첨단기술의 국외유출 사범에 대해 엄정 대응하겠다"고 말했다.

반도체 세정장비.(서울중앙지검 제공) © 뉴스1

<저작권자 © 뉴스1코리아, 무단전재 및 재배포 금지>