하이닉스, 대만서 66나노 D램 생산 추진

산업기술유출방지법 적용 첫 사례

하이닉스반도체가 최첨단 D램 생산공정인 66나노(1나노=10억분의1m) 기술을 중국의 우시 공장과 대만의 프로모스 생산라인에 적용키로 했다. 하이닉스의 66나노 공정 기술 이전은 반도체 분야에서는 올해 시행된 '산업기술유출방지법'의 적용을 받는 첫번째 사례가 된다.

하이닉스 는 "전략적 제휴 업체인 대만 프로모스 라인에 66나노 공정을 적용해 D램을 생산키로 했다"고 12일 밝혔다. 프로모스는 대만의 파운드리(반도체 위탁생산) 업체로 하이닉스와 지난 2003년 전략적 제휴를 맺고 하이닉스의 D램을 위탁생산하고 있다. 현재는 80나노 공정에서 D램을 생산하고 있다.

지난 8월말 발효된 '산업기술유출방지법'에 따르면 반도체 공정 기술중 80나노 이하는 산업자원부에 '신고'토록 돼 있다. 신고 사항이지만 '국가안보에 심각한 영향'을 줄 것이라고 판단될 때는 산업기술보호위원회의 의결을 거쳐 수출중지 수출금지 원상회복 등을 명령할 수 있다.

하이닉스 관계자는 "관련법에 따라 산자부에 신고할 계획"이라고 말했다. 이에 대해 산자부 관계자는 "하이닉스가 관련 서류를 제출하면 전문위원회의 심사 등을 거쳐 처리할 것"이라고 밝혔다. 관련법상 서류가 제출되면 15일 이내에 조치토록 돼 있다.

하이닉스는 이에 앞서 중국의 우시(無錫) 공장에는 이미 지난 7월부터 66나노 공정을 적용한 D램 생산을 시작했다고 밝혔다. 우시 공장은 ST마이크로와의 합작해 설립한 곳으로 지난해부터 가동에 들어갔다. 하이닉스 관계자는 "우시 공장의 경우 산업기술유출방지법 시행 이전이기 때문에 관련법상 문제가 없다"고 설명했다.

한편 하이닉스가 중국과 대만 공장에 적용할 60나노대 공정은 현재 전세계적으로 삼성전자와 하이닉스만이 양산에 들어간 기술이어서 일부에서는 기술 유출이라는 지적도 나오고 있다. .

이에 대해 하이닉스 관계자는 "대만 프로모스는 위탁생산 업체이며 중국은 자체 생산시설로 단순 기술직만을 쓰고 있기 때문에 기술 유출 우려는 없다"고 설명했다. 특히 이미 전세계 반도체 업체들이 사활을 건 합종연횡을 벌이고 있는 상황에서 기술 유출 논란으로 하이닉스의 발목을 잡는 것은 문제가 있다는 지적도 나오고 있다. 실제로 일본의 엘피다는 전략적 제휴 회사인 대만 파워칩에 70나노 공정을 적용하고 있는 것으로 알려졌다.


현재 산업기술유출방지법은 반도체의 경우 D램은 80나노 이하, 낸드플래시는 70나노 이하에 해당되는 설계에서 조립 검사 기술까지 해외로 내 보낼때는 산업기술보호위원회의 승인 또는 신고 절차를 거치도록 하고 있다.

하이닉스가 대만 프로모스에 66나노 공정 적용을 신청하게 되면 반도체 분야에서는 이 법의 적용을 받는 첫번째 사례가 된다. 산자부 관계자는 "우시 공장의 66나노 적용은 법 발효 이전이었고 하이닉스가 보안조치를 해서 제출했기 때문에 곧바로 처리됐다"고 설명했다.