삼성전자는 지난 2004년 노어플래시와 낸드플래시의 장점을 갖춘 퓨전반도체 '원낸드'를 개발한데 이어 제2의 퓨전반도체 원D램을 개발했다.
◇삼성전자 퓨전반도체로 황금시장 창출 = 원D램은 휴대폰을 비롯해 모바일 기기와 게임기를 포함 3차원 그래픽 기능을 채용하는 각종 디지털기기에 본격 채용될 것으로 보인다. 특히 내년 하반기부터 휴대폰 탑재가 본격화될 전망이다. 1기가 원D램 양산으로 사업이 본궤도에 오르는 2008년에는 2억 달러의 새로운 시장이 형성될 것으로 보인다. 삼성전자는 2011년까지 향후 5년간 25억 달러의 '황금시장'을 창출할 것으로 자신하고 있다.
삼성전자는 2004년 11월 세계 최초로 90나노 공정을 적용, 낸드 플래시와 S램, 로직을 하나의 칩에 집적한 1기가 원낸드(OneNAND™) 퓨전 메모리를 개발했다.
이 제품은 다양한 형태의 메모리와 로직을 하나의 칩에 집적하고, 시스템 사양에 적합한 소프트웨어까지 제공하는 '퓨전 메모리'다.
이 시각 인기 뉴스
이 제품을 채택하면 휴대폰 부팅시간이 대폭 단축되고, 500만 화소급 사진 60매의 연속촬영이 가능하다. 삼성전자는 당시 휴대폰에 주로 사용되는 노어플래시를 대체하며 새로운 시장을 창출할 것으로 예측했다. 2008년까지 연평균 67%의 급성장을 자신했다.
이 같은 예측은 현실화로 나타나고 있다. 2004년부터 휴대폰용 '원낸드' 판매에 나선 삼성전자는 올해 5억 달러 규모의 '퓨전 메모리' 매출을 달성했다. 응용 분야를 각종 디지털 컨수머 기기로 확산시키면서 2008년에는 '원낸드'로만 1조원의 매출을 기록할 것으로 전망하고 있다. 특히 원낸드 시장은 2008년 10억 달러, 2010년 15억 달러로 확대될 것으로 내다보고 있다.
◇퓨전테크놀로지 기술력도 최정상 = 삼성전자는 원낸드와 원D램을 통해 퓨전테크놀러지 기술력도 세계 최정상임을 과시했다. 세계 반도체 기술은 고집적화와 다기능화라는 큰 흐름을 보이고 있다.
고집적화는 하나의 반도체 용량을 높이는 기술. 대표적인 것이 삼성전자가 지난 9월 발표한 신개념 차지트랩플래시(CTF) 기술이다.
삼성전자는 이 기술을 토대로 40nm(나노미터·1nm는 10억분의 1m) 32Gb(기가비트) 낸드플래시메모리를 개발, 해마다 반도체 집적도가 두배씩 증가한다는 '황의법칙'을 다시 입증했다.
퓨전반도체는 여러 기능을 가진 반도체를 하나의 칩에 구현해 '다기능화'를 입증한 제품이다. 퓨전 반도체는 휴대폰과 PC, 카메라 등 IT제품이 융복합화되는 디지털컨버전스 현상이 확산되면서 폭발적인 수요가 예상된다.
원D램도 휴대전화의 미디어 기능이 확대되면서 모바일 기기 내 메모리 시스템과 데이터 흐름이 복잡해지는 단점을 극복하기 위해 개발됐다. 물론 기존 대비 5배의 고속 구동이 가능하고 칩 개수 최소화로 시스템 구성원가를 절감할 수 있다는 장점도 있다. 여기에 최로 면적을 50% 줄이고 전력 소비도 30% 감소시켰다는 점에서 휴대폰업체의 원D램에 대한 매력도는 기대치를 웃돈다.
그러나 더욱 중요한 것은 퓨전 메모리가 반도체 업계의 트렌드로 자리 잡았다는 점이다. 낸드플래시 진영의 하이닉스와 이스라엘 M시스템, 도시바와 M시스템스도 각각 공동으로 퓨전메모리 개발에 나선 것. 노어플래시 진영의 스팬션도 이미 '오어낸드'라는 퓨전메모리를 개발했다.
황창규 삼성전자 반도체총괄 사장이 '3차원 퓨전기술로 2010년 퓨전시대를 실현시킬 것"이라고 말한 것도 퓨전테크놀러지 기술에 대한 자심감에서 출발한다.
